Разработка и изготовление источников питания для применения в составе вакуумных технологических комплексов модификации поверхности и осаждения тонкопленочных функциональных покрытий с применением PVD технологий по техническим требованиям заказчика:
- источники питания электрического смещения подложки;
- источники питания стационарныхвакуумных электродуговых генераторов металлической плазмы;
- источники питания импульсных вакуумных электродуговых генераторов углеродной плазмы;
- источники питания магнетронных распылительных систем;
- источники питания генераторов плазмы с замкнутым дрейфом электронов;
- источники питания генераторов плазмы на основе торцевого ускорителя Холла;
- радиочастотные генераторы для применения в PVD технологических системах.
Разработка, изготовление и отладка автоматизированных систем управления технологическим процессом (АСУТП) осаждения тонкопленочных покрытий в вакууме с применением PVD технологий по техническому заданию заказчика.