Вакуумная установка предназначена для нанесения в вакууме покрытий различного фукнционального назначения комбинированным методом в сочетании с использованием ионной очистки и ассистирования.
Устройства распыления: протяжённый планарный несбалансированный магнетронный источник (90х520 мм), два электродуговых испарителя, диаметр катода 116мм. Для очистки и ассистирования применён протяжённый планарный ионный источник. Высота зоны обработки 520 мм.
Требования к материалам установки: Камера рабочая, элементы внутрикамерных устройств, вакуумной и газовой систем изготовлены из стали 12Х18Н10Т, титана ВТ-1, меди Моб, М1, фторопласта Ф-4. Чистота обработки поверхностей, обращённых к вакуумному объёму не ниже Ra=1,6. Разводка магистралей вакуумной и газовой систем выполнена из стали 12Х18Н10Т, уплотнительные элементы трубопроводов изготовлены из резиновых смесей ИРП1245, ИРП1265, витона, фторопласта Ф-4.
Спасибо за ваш отзыв!
После проверки опубликуем на сайте и отправим ссылку на почту.
Вакуумная установка предназначена для нанесения в вакууме покрытий различного фукнционального назначения комбинированным методом в сочетании с использованием ионной очистки и ассистирования.
Устройства распыления: протяжённый планарный несбалансированный магнетронный источник (90х520 мм), два электродуговых испарителя, диаметр катода 116мм.
Для очистки и ассистирования применён протяжённый планарный ионный источник. Высота зоны обработки 520 мм.
Требования к материалам установки:
Камера рабочая, элементы внутрикамерных устройств, вакуумной и газовой систем изготовлены из стали 12Х18Н10Т, титана ВТ-1, меди Моб, М1, фторопласта Ф-4.
Чистота обработки поверхностей, обращённых к вакуумному объёму не ниже Ra=1,6.
Разводка магистралей вакуумной и газовой систем выполнена из стали 12Х18Н10Т, уплотнительные элементы трубопроводов изготовлены из резиновых смесей ИРП1245, ИРП1265, витона, фторопласта Ф-4.